CMP

• 精密清洗

清洁对不断集成化的半导体器件提供支持的 CMP（chemical mechanical polishing）抛光垫，有助于延长抛光垫的使用寿命并减少微型划痕。

清除加工毛刺

• 精密清洗

进行加工会导致玻璃产品上也产生细毛刺。如果使用HPMJ，则能在抑制母材损伤的同时去除不必要的毛刺。

防指纹膜

• 精密喷涂

这是在触摸面板等产品中的需求日益增长的防指纹粘附膜事例。
将膜厚度大约控制在单纳米级到100nm。